半導体製造
一流のシリコンチップは、高度な装置、プロセス、知識によって製造されます。成功するプロセスの背後には、高性能なモニタリングや計測機器があります。
それぞれのシリコンチップには設計通りの機能が求められ、必要最小限の材料、エネルギー、その他のリソースを使用して製造されることが望まれます。
高品質な計測が成功を確実に
高露点から低露点まで
半導体ウェハーやマイクロエレクトロニクスの製造から半導体のパッケージングに至るまで、重要なプロセスに信頼性の高い計測を導入し、安定した品質、高い歩留まり、予測可能性、コスト効率を実現します。
私たちの製品は、湿度、露点、温度、圧力、そして湿式化学プロセスの濃度計測を網羅しています。各計測機器は、製造環境に関する正確なデータを提供し、プロセスの最適化、歩留まりの向上、安全性の確保、そして最高性能のチップを実現するために、卓越した精度、長期安定性、迅速な応答時間を備えています。
これらの理由から、ヴァイサラは、半導体メーカーやMEMSファウンドリ、半導体装置メーカーやOEM、工場運営者、材料サプライヤーにとって、信頼される計測パートナーとして選ばれています。
フロントエンドからバックエンドまで、お客様のあらゆるプロセスをヴァイサラがサポートします。
なぜヴァイサラ？
半導体製造向けに設計
包括的な製品ラインアップによって、半導体製造に求められる正確なパラメータを提供し、安定した計測を可能にします。
製品に組み込まれた計測精度
サポートエコシステムが支援する製品が、所有コストの最適化、ライフサイクルコストの最小化を実現。
リスクを回避 - 高露点から低露点まで信頼できる製品を選択
ヴァイサラの製品は、計測範囲全体をカバーし、特定の用途に対応する製品も含め、高露点から低露点まで必要なものをすべて提供します。
カスタマイズされた製品 - 受注設計
ヴァイサラの製品は、特定の用途や設置場所に合わせてカスタマイズできることをご存知ですか？
私たちの最大の喜びは、計測に関する複雑な課題をお客様と一緒に解決することです。ぜひお問い合わせください！ヴァイサラがサポートします。
ヴァイサラは、行動します
ヴァイサラは、製品用および研究開発用のセンサチップをすべて自社クリーンルームで製造します。世界最高峰の品質にとって何が必要かを熟知しています。
さらに、ヴァイサラは製品のライフサイクル全体にわたるサポートをお約束します。お客様がどこにいても、お近くでヴァイサラのエキスパートによるサービスとサポートを受けることができます。
半導体製造用途
クリーンルーム、HVACにおける環境計測
空調システム、HVACによる湿度制御
湿度は、半導体製造プロセスにも影響を及ぼす可能性があります。過剰な湿度は、敏感な機器に結露を引き起こし、半導体装置の欠陥につながる可能性があります。精密空調システムは湿度レベルを制御し、予防策として機能します。
プロセス効率を最大化するための、高効率な室内全体のモニタリング
プローブを戦略的かつ適切な間隔で配置することで、ドライルームやクリーンルームを効率的にモニタリングでき、部屋の大きさにかかわらず、全体を包括的に制御できます。
DMP1は、Indigo300と組み合わせることで、電池、半導体製造におけるプロセスの信頼性と適切な乾燥レベルを維持するのに最適です。
プロセス効率を最大化するための、高効率な室内全体のモニタリング
プローブを戦略的かつ適切な間隔で配置することで、ドライルームやクリーンルームを効率的にモニタリングでき、部屋の大きさにかかわらず、全体を包括的に制御できます。
DMP1は、Indigo300と組み合わせることで、電池、半導体製造におけるプロセスの信頼性と適切な乾燥レベルを維持するのに最適です。
耐久性のある製品を活用したウェハー洗浄
ウェハー洗浄は、シリコンウェハーの表面から汚染物質、粒子、残留物を除去する非常に重要な工程です。この工程により、集積回路（IC）や他の半導体機器の信頼性や機能性が確保されます。
卓越した耐久性
洗浄剤には酸、溶剤、水などが含まれる場合があり、これらの残留物が存在する可能性があり、計測プローブには高い耐久性が求められます。
私たちは、ウェハー洗浄工程向けに特別に設計された、金属接液部品を含まない高湿度と過酷な化学薬品にも耐久する耐腐食性プローブを提供しています。
汚染や粒子の付着を防ぐために、洗浄後にチップの確実な乾燥が重要です。
フォトリソグラフィーにおけるウェハーステッパー
フォトリソグラフィーでのウェハーステッパーは、集積回路（IC）やその他の半導体機器の製造におけるもうひとつの最重要処理工程です。この工程では、感光性材料（フォトレジスト）をコーティングしたシリコンウェハーに光パターンを投影し、ウェハーに意図するパターンをエッチングします。結果として、一部のフォトリソグラフィー工程では、湿度の許容範囲が±1%と非常に厳しい場合があります。
ウェハーパターンのばらつきをゼロにするための温度管理
ステッパーでの高品質な計測プローブは、安定した温度計測を提供し、温度変動によって引き起こされるパターン寸法の変化からウェハーを保護します。ウェハーパターンの寸法が誤っていると、半導体デバイス全体の品質と性能に悪影響を及ぼします。
光学系の安定性を保つ湿度制御
ウェハーステッパーは、高精度な光学系に依存し、ウェハーにパターンを投影、転写します。温度やその他の環境条件の変化は、光学系の安定性と精度に影響を及ぼす可能性があります。
正確なリソグラフィ工程と安定化のための気圧制御
光学の精度とリソグラフィ工程の正確さを確保するためには、気圧の計測が不可欠です。気圧は空気の屈折率に直接影響を与え、それがウェハーステッパーの光学系やリソグラフィ光の波長に影響を及ぼします。
焦点と深度制御
高速かつ正確な計測機器を用いて気圧を測定、制御することで、像の焦点のずれを防止します。
湿度制御によりチッププローバーマシンの凍結を防止
ウェハープロービングマシンは、チップをテストし不良ウェハーを識別します。このテストは、例えば車両での使用を想定して最低-40度のまでの低温下で実施され、チップが極寒環境でも機能することを確認します
テスト環境は、チップ上に氷が堆積しないように、露点温度を-40度以下の乾燥した状態に維持する必要があります。氷が堆積した場合、室温に戻した際に水に変わり、チップ上に不純物が蓄積する原因になります。
私たちは、チッププローバーマシン向けの高精度の露点プローブを提供しています。
超高純度ガスを超高純度のまま保持
高価なプロセスガスを湿度による汚染から守ります。ガスの品質はチップの品質に大きく影響し、微量の不純物でも欠陥や故障を引き起こす可能性があります。湿度は特定の物質と反応し、酸化などのプロセス中に欠陥を引き起こす可能性があります。
応答性の高いプローブは湿度を即座に検知し、設定限界に達した際にアラートを発します。
湿式化学における薬品濃度のリアルタイム最適化および計測
半導体ウェハー工場では、ファブ工程を通して大量の化学薬品が消費されます。各化学薬品の信頼性を確保し、仕様からの逸脱による高額な設置汚染やウェハー廃棄を防ぎます。
エキスパートによるコンテンツと導入事例
Semiconductor cleanroom best practices for humidity measurements
Semiconductor manufacturing is a delicate process, with many potential error sources. One is humidity. Excessive humidity can cause issues like condensation, whereas too dry conditions favors static charge build-up, potentially leading to damaging electrostatic discharges.
In this 30-minute webinar, our expert Juhani Lehto will cover extremes in humidity measurements in the semiconductor cleanroom, and shares measurement instrument installation best practices.
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