用于半导体工艺、设施监测和控制的解决方案 联系我们 半导体晶圆和微电子制造是一个要求很高、几乎不容出错的工艺过程。该行业高度依赖于高性能监测仪器，以准确测量化学品成分和环境条件。我们提供半导体行业折光仪，用于在线监测以下工艺点化学品溶液浓度：散装化学品和浆料配送、现场混合、补液和抛光处理；我们还提供相关仪器，用于测量半导体工具和设施内部及周围的湿度、露点、温度和气压。 应用 湿化学品实时测量 半导体晶圆厂在整个制程工艺中要消耗数以吨计的化学品。 每种化学溶液的可靠性是工厂非常关心的问题，即使很轻微的规格偏离也可能会导致设备污染和晶圆报废，带来严重损失。 了解有关晶圆厂化学品工艺监测的更多信息 光刻中的晶圆质量 半导体制造中的集成电路质量取决于光刻机的状况。准确的气压、温度和湿度测量能增强对环境的精准调节，也有助于提高晶圆光刻机的加工能力。 查找相关产品 (PDF) 压缩空气和氮气工艺管线 如果您目前使用的是压缩空气或氮气工艺管线，露点测量在避免设备腐蚀的情况下又可以避免空气过度干燥，帮助您节约资源。维萨拉的 DRYCAP 技术能够快速响应、准确测量，并且维护工作量很小。 查找相关产品 设施控制 通风不足不仅会影响员工健康，还会大大降低工作效率（降幅高达 18%）。使用可靠耐用、可追溯的暖通空调传感器准确测量湿度、CO2 和温度，既能提高能源效率，也能确保员工健康。 查找相关产品 为什么选择维萨拉？ 维萨拉是半导体行业的设备生产厂商，也是客户值得信赖的合作伙伴。 由于对半导体行业有着深刻的了解，从化学品和工艺质量监测，到环境空气监测， 我们设计和制造了针对不同半导体关键工艺制程的产品。 通过打造自己的内部洁净室，以及制造高品质的微芯片来用于维萨拉产品和实现研发目标， 我们形成了自己的工艺理解。维萨拉承诺在产品的整个生命周期提供支持，并且就近为您提供优质的服务和支持。 联系我们 更多信息 案例 维萨拉是许多半导体制造厂测定钨的 CMP 研磨液中 H2O2 浓度的仪器供应商 维萨拉 K‑PATENTS 半导体行业用折光仪为半导体制造环境设计。该仪器尺寸小且不含金属，因此适合在不影响工艺的情况下测量化学物质。 了解更多 博客 水分是半导体制造过程中影响较大的污染物之一 —— 准确测量水分、湿度和温度 为避免产品质量和产量出现问题，在半导体制造过程中必须尤为谨慎地监测湿度和温度水平。维萨拉的高精度测量解决方案适用于制造工艺流程中的关键步骤，响应非常迅速，且能够适应各种环境条件。 了解更多 网络研讨会 保障半导体和电池制造的正常产出 在半导体和电池制造工艺流程中，杂质会导致产品质量大幅下降。尤其是水污染，因为水分蒸发产生的热量和膨胀产生的压力会引起各种问题，从而导致半导体和电池的质量和性能下降。 注册观看
