Halbleiterfertigung

Zuverlässige Messungen von Druck, Temperatur, Feuchte und Flüssigkeitskonzentration für erhöhte Erträge, mehr Sicherheit und leistungsstärkste Produkte

Kontakt

1982

eigener Reinraum seit

DRYCAP®

Hochmoderne Technologie für die Halbleiterfertigung

Führend

Halbleiterfabriken sind unsere Kunden

Erstklassige Siliziumchips werden durch den Einsatz hochentwickelter Maschinen und Verfahren und durch die Nutzung fundierter Kenntnisse hergestellt. Und hinter erfolgreichen Verfahren steht leistungsstarke Überwachungs- und Messtechnik.

Jeder Siliziumchip hat Anspruch darauf, wie vorgesehen zu funktionieren und bei seiner Herstellung genau die richtige Menge an Material, Energie und anderen Ressourcen zu verbrauchen.

Mit Qualitätsmessungen zum Erfolg

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Von nass zu trocken und umgekehrt

Von der Herstellung von Halbleiterwafern und der Mikroelektronik bis hin zur Verpackung von Halbleitern: Statten Sie Ihre kritischen Verarbeitungsschritte mit vertrauenswürdigen und zuverlässigen Messungen aus, um stabile Qualität, hohe Erträge, Vorhersagbarkeit und Kosteneffizienz zu gewährleisten.

Unser Angebot umfasst Instrumente zur Messung von Feuchte, Taupunkt, Temperatur, Druck und Konzentrationen der Nasschemikalien. Jedes Produkt liefert präzise Daten zur Fertigungsumgebung. Es bietet höchste Genauigkeit, Langzeitstabilität und schnelle Ansprechzeiten zur Prozessoptimierung, Ertragssteigerung, Sicherheit und zu leistungsstärksten Chips.

Aus diesen Gründen ist Vaisala der bevorzugte Messpartner für Halbleiterhersteller und MEMS-Gießereien, Halbleiterausrüstungshersteller und Erstausrüster, Fabrikbetreiber und Materiallieferanten.

Von Front-End über Back-End bis hin zum Kunden sind wir für Sie da.

WARUM VAISALA

Für die Halbleiterfertigung konzipiert

Das umfassende Vaisala Angebot mit den geeigneten Parametern sorgt für stabile Messungen in der Halbleiterherstellung.

Messgenauigkeit konzipiert im Produkt

Wählen Sie Produkte aus einem Supportökosystem, die optimierte Betriebskosten und minimale Lebenszykluskosten bieten.

Risiken vermeiden – von nass bis trocken zuverlässige Produkte wählen

Vaisala Produkte decken den gesamten Messbereich ab und bieten alles, was Sie von nass bis trocken benötigen, einschließlich Produkte für spezifische Anwendungen.

Angepasste Produkte – Auftragsfertigung

Wussten Sie, dass unsere Produkte individuell für eine bestimmte Anwendung oder Montagestelle angepasst werden können?

Nichts macht uns mehr Freude, als gemeinsam mit Ihnen schwierige Messprobleme zu lösen. Kontaktieren Sie uns! Wir sind hier, um Ihnen zu helfen.

Wir gehen den Weg

Vaisala fertigt Sensorchips für Vaisala Produkte und für den Einsatz in Forschung und Entwicklung im eigenen Reinraum. Wir wissen, was nötig ist, um erstklassige Qualität herzustellen.

Darüber hinaus engagiert sich Vaisala für die Unterstützung unserer Produkte während ihres gesamten Lebenszyklus. Unsere kompetenten Service- und Supportleistungen sind in Ihrer Nähe, wo auch immer Sie sind.

Anwendungen in der Halbleiterfertigung

Umgebungsmessungen im Reinraum, HLK

Feuchtesteuerung durch Klimaanlage, HLK

Auch der Feuchtegrad kann sich auf den Herstellungsprozess von Halbleitern auswirken. Übermäßige Feuchte kann zur Kondensation auf empfindlichen Geräten führen und möglicherweise Defekte in den Halbleiterbauelementen verursachen. Präzisionsklimaanlagen helfen bei der Feuchtesteuerung und dienen als vorbeugendes Mittel.

INDIGO300 erkunden

Waferreinigung mithilfe von langlebigen Produkten

Die Waferreinigung ist ein kritischer Prozess bei der Halbleiterherstellung, um Verunreinigungen, Partikel und Rückstände von der Oberfläche von Siliziumwafern zu entfernen. Dieses Verfahren gewährleistet die Zuverlässigkeit und Funktionalität von integrierten Schaltkreisen und anderen Halbleiterbauelementen.

Besonders lange Haltbarkeit

Reinigungsmittel können Säuren, verschiedene Lösemittel und Wasser enthalten. Diese Rückstände können wiederum vorhanden sein, weshalb von den Messsonden eine besonders lange Haltbarkeit verlangt wird.

Vaisala bietet korrosionsbeständige Sonden, auch ohne benetzte Metallteile, die speziell an die Waferreinigung angepasst und beständig gegenüber hoher Feuchte sowie aggressiven Chemikalien sind.

Es ist wichtig, nach der Reinigung für trockene Chips zu sorgen, um Verunreinigungen und Partikelanhaftungen zu vermeiden.

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Waferstepper in der Fotolithografie

Waferstepper in der Fotolithografie ist ein weiterer kritischer Verarbeitungsschritt bei der Herstellung von integrierten Schaltkreisen und anderen Halbleiterbauelementen. Bei diesem Schritt wird ein Lichtmuster auf einen mit lichtempfindlichem Material (Fotolack) beschichteten Siliziumwafer projiziert und so das gewünschte Muster in den Wafer geätzt. Daher darf die Feuchte in manchen Fotolithografiebereichen unter Umständen nur um ±1 % schwanken.

Temperatursteuerung für null Abweichungen in den Wafermustern

Hochwertige Messsonden in Steppern ermöglichen stabile Temperaturmessungen. Sie schützen die Wafer vor durch Temperaturschwankungen bedingten Abweichungen in den Musterabmessungen. Falsche Abmessungen der Wafermuster wirken sich negativ auf die Qualität und Leistung insgesamt der Halbleiterbauelemente aus.

Feuchtesteuerung für optische Stabilität

Der Waferstepper benötigt präzise Optik, um Muster auf den Wafer zu projizieren und zu übertragen. Jegliche Schwankungen der Temperatur oder anderer Umgebungsbedingungen können die Stabilität und Genauigkeit dieser Optik beeinträchtigen.

Luftdrucksteuerung für präzise Lithografie und Prozessstabilität

Die Messung des Luftdrucks ist für die optische Präzision und Genauigkeit des Lithografieprozesses unerlässlich, da der Luftdruck direkten Einfluss auf den Brechungsindex der Luft hat. Dieser beeinflusst wiederum die Optik des Wafersteppers und die Wellenlänge des Lithografielichts.

Fokus- und Tiefensteuerung

Verhindern Sie defokussierte Bilder, indem Sie den Luftdruck mithilfe von schnellen und genauen Instrumenten messen und steuern.

Chip-Prober-Maschine eisfrei durch Feuchtesteuerung

Wafer-Prober-Maschinen erkennen defekte Wafer durch Testen der Chips. Die Tests werden bei kalten Temperaturen bis zu −40 °C durchgeführt. So wird sichergestellt, dass der Chip auch bei extremen Temperaturen funktioniert, beispielsweise wenn er später in einem Fahrzeug eingesetzt werden soll.

Die Testumgebung muss trocken gehalten werden, und die Taupunkttemperatur muss unter −40 °C liegen. So kann sich auf dem Chip kein Eis ablagern, das sich später bei Raumtemperatur in Wasser umwandeln und Verunreinigungen auf dem Chip ansammeln würde.

Vaisala bietet genaue Taupunktsonden für Chip-Prober-Maschinen.

DMT143 erkunden

Hochreine Gase hochrein halten

Schützen Sie kostspielige Prozessgase vor Verunreinigung durch Feuchte. Die Gasqualität beeinträchtigt die Chipqualität erheblich, da selbst kleinste Verunreinigungen zu Defekten oder Ausfällen führen können. Feuchte kann mit bestimmten Materialien reagieren oder bei Prozessen wie Oxidation Defekte verursachen.

Eine Sonde mit schneller Ansprechzeit erkennt jegliche Feuchte umgehend und gibt Alarm, wenn der eingestellte Grenzwert erreicht wird.

DMT152 erkunden

Sicherer Differenzdruck im Reinraum

Mit unseren empfindlichen Sonden können Sie den Differenzdruck im Reinraum problemlos gemäß ISO 14644-Standard halten. Das modulare Vaisala Indigo System ermöglicht es, Differenzdruck- und Feuchtemesssonden an denselben Indigo Messwertgeber anzuschließen.

Erfahren Sie mehr über unsere Differenzdrucksonden PDT101 und PDT102.

Vaisala PDT101

Vaisala PDT102

Konzentration der Nasschemikalien in Echtzeit messen und optimieren

In den Halbleiterwaferanlagen werden während des gesamten Herstellungsprozesses Tonnen von Chemikalien verbraucht. Stellen Sie die Zuverlässigkeit jeder Chemikalie sicher, und vermeiden Sie Abweichungen von der Spezifikation, die zu einer kostspieligen Verunreinigung der Geräte und zu Waferausschuss führen können.

Überwachung chemischer Herstellungsprozesse

Fachinhalte und Anwendungsberichte

Fachartikel

Waferqualität und -ertrag durch in Echtzeit datengesteuertes Management der Schlammzusammensetzung steigern

Die im Verarbeitungsschritt des chemisch-mechanischen Polierens verwendete Schlammzusammensetzung hat großen Einfluss auf die Waferqualität. Vaisala Inline-Refraktometer ermöglichen eine Echtzeitüberwachung der Schlammzusammensetzung und gewährleisten so die Chargenkonsistenz sowie optimale Waferqualität.

Mehr erfahren

Fachartikel

Verbesserung von Feuchtemessungen in extrem trockenen Umgebungen

Fallbeispiel hochreiner Gase in der Prozessindustrie

Einige der anspruchsvollsten industriellen Prozesse, wie die Herstellung reiner Gase oder die Halbleiterfertigung, erfordern sehr genaue Messungen von Spuren des Feuchtegehalts.

Kundenberichte

Übertreffen der hochpräzisen Anforderungen der Herstellung integrierter Schaltkreise: die Rolle der Vaisala Instrumente in Reinräumen

Kunde: China Electronics System Engineering CEFOF und Halbleiterhersteller Beijing Memory Technologies, Inc. (BJMT)
Herausforderung: Einrichtung einer Reinraumumgebung mit einem Überwachungssystem, das in der Lage ist, strenge Temperatur- und relative Feuchtetoleranzen zu überwachen
Lösung: Vaisala HMT370EX, Vaisala HMT120 und Vaisala HMT330. Alle perfekt für anspruchsvolle Prozessbedingungen, um hervorragende Messungen bereitzustellen

Anwendungsbericht

Warum Vaisala ein bevorzugter Anbieter für viele Halbleiterfabriken zur Qualifizierung der H2O2-Konzentration in CMP von Wolfram ist

Die RI-Messung ist eine einfache, kostengünstige und genaue Technik, die Echtzeitinformationen über die Zusammensetzung von Schlämmen liefert, wodurch ein Refraktometer zum Messinstrument der Wahl für viele Fertigungsanlagen wird.

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Leitfaden

Verstehen und Nutzen von Echtzeitdaten im CMP-Prozess

Genaue und schnelle Messungen von Brechungsindex und relativer Feuchte für optimierte CMP-Werkzeugleistung

Wussten Sie, dass die Messung des Brechungsindex mit einem Inline-Refraktometer eine sichere und kostengünstige
Echtzeit-Methode mit geringem Wartungsaufwand zur Prozessüberwachung ist, um die Konzentration von Nasschemikalien exakt zu bestimmen?

Weitere Informationen

Blog

Halbleiterqualitätsprodukte erfordern hochwertige Maschinen mit optimalen Überwachungsgeräten

In diesem Blog befassen wir uns mit dem Vaisala Angebot an Feuchte- und Drucksensoren, die genaue Messungen für Hersteller von Maschinen gewährleisten, die zur Halbleiterproduktion eingesetzt werden.

Blog

Wasser ist eine der bedeutendsten Verunreinigungen in der Halbleiterfertigung – genaue Messung von Feuchtigkeit, Feuchte und Temperatur

Um Probleme in Bezug auf Produktqualität und Produktertrag zu verhindern, müssen Feuchtegehalt und Temperatur bei der Herstellung von Halbleitern äußerst sorgfältig überwacht werden.

Webinar

Optimieren von Waferqualität und Ertrag mit Echtzeitdaten beim CMP-Prozess

Registrieren Sie sich für dieses Webinar, um zu erfahren, warum Vaisala Prozessrefraktometer von Hunderten von Halbleiterherstellern weltweit installiert wurden. Wir werden auf die Technologie hinter unseren Messlösungen eingehen und gängige Anwendungen vorstellen, bevor wir Anwendungsfälle von Herstellern als Beispiele anführen werden.

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Webinar

Sicherstellung des Ertrags in der Halbleiter- und Batteriefertigung

In diesem On-Demand-Webinar (auf Englisch) erfahren Sie mehr über verschiedene Techniken für perfekte Messgenauigkeit und -qualität, praktische Lösungen zur Aufrechterhaltung optimaler Fertigungsbedingungen in Reinraum- und Trockenraumumgebungen und die Auswahl des richtigen Produkts für Ihre Anwendung.

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Zugehörige Produkte

Vaisala DRYCAP® Dew Point and Temperature Probe DMP7 is made for tight spaces and low-humidity applications.

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