Wafer cleaning

Halbleiterfertigung

Zuverlässige Messungen von Druck, Temperatur, Feuchte und Flüssigkeitskonzentration für erhöhte Erträge, mehr Sicherheit und leistungsstärkste Produkte

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1982
eigener Reinraum seit
DRYCAP®
Hochmoderne Technologie für die Halbleiterfertigung
Führend
Halbleiterfabriken sind unsere Kunden

Erstklassige Siliziumchips werden durch den Einsatz hochentwickelter Maschinen und Verfahren und durch die Nutzung fundierter Kenntnisse hergestellt. Und hinter erfolgreichen Verfahren steht leistungsstarke Überwachungs- und Messtechnik.

Jeder Siliziumchip hat Anspruch darauf, wie vorgesehen zu funktionieren und bei seiner Herstellung genau die richtige Menge an Material, Energie und anderen Ressourcen zu verbrauchen.

 

Mit Qualitätsmessungen zum Erfolg

Semiconductor infographic
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Von nass zu trocken und umgekehrt

Von der Herstellung von Halbleiterwafern und der Mikroelektronik bis hin zur Verpackung von Halbleitern: Statten Sie Ihre kritischen Verarbeitungsschritte mit vertrauenswürdigen und zuverlässigen Messungen aus, um stabile Qualität, hohe Erträge, Vorhersagbarkeit und Kosteneffizienz zu gewährleisten.

Unser Angebot umfasst Instrumente zur Messung von Feuchte, Taupunkt, Temperatur, Druck und Konzentrationen der Nasschemikalien. Jedes Produkt liefert präzise Daten zur Fertigungsumgebung. Es bietet höchste Genauigkeit, Langzeitstabilität und schnelle Ansprechzeiten zur Prozessoptimierung, Ertragssteigerung, Sicherheit und zu leistungsstärksten Chips.

Aus diesen Gründen ist Vaisala der bevorzugte Messpartner für Halbleiterhersteller und MEMS-Gießereien, Halbleiterausrüstungshersteller und Erstausrüster, Fabrikbetreiber und Materiallieferanten.

Von Front-End über Back-End bis hin zum Kunden sind wir für Sie da.  

Technologievergleich

Erfahren Sie, wie die Vaisala Taupunktsonde im Vergleich mit CRDS (Cavity Ring-Down Spectrometer) 
und Tauspiegelmesswertgebern in den anspruchsvollsten 
Betriebsumgebungen, wie der Herstellung wiederaufladbarer Batterien und Halbleiter, abschneidet.

 Vaisala TaupunktsondeCRDSTauspiegelmesswertgeber
Td-Mess
bereich*
−80 … +20 °C−100 … −50 °C −70 … +20 °C 
In-situ-MessungJaNein, erfordert Probenahme und einen großen DruckunterschiedNein, erfordert Probenahme
Td-Genauigkeit
unter Laborbedingungen* 
±2 °C±0,2 °C±0,2 °C
Druckbereich* 1–50 bar 1–5 barnur ~ 1 bar
Abhängigkeit von
atmosphärischen
Bedingungen
Nicht abhängigAbhängig. Stabile atmosphärische Bedingungen erforderlich. Außerhalb eines Labors
können bei der Probenahme Fehler auftreten. 
Abhängig. Der minimale Taupunkt steigt, wenn die Umgebungstemperatur zunimmt. Außerhalb eines Labors können bei der Probenahme Fehler auftreten.
Ansprechzeit* Minuten Zehn Minuten Stunden
EmpfindlichkeitHochNiedrig (kann schnelle Änderungen nicht erkennen, Durchschnittsmessung) Niedrig (kann schnelle Änderungen nicht erkennen,
Durchschnittsmessung)
Größe Klein und leicht. Passt problemlos an mehrere Standorte Mittelgroß, ca. 10 kgVon groß und schwer bis mittelgroß
Betreiber bietet
regelmäßige Wartung
Nicht erforderlich Nicht erforderlich Erforderlich
Zu wartende
Komponenten
Nicht erforderlich Nicht erforderlich, wenn in sauberer UmgebungErforderlich (z. B. Peltier)
Lokale Kalibrierung/
Unterstützung verfügbar
JaUnwahrscheinlichUnwahrscheinlich
Abhängigkeit von
Hintergrundgasen
Unerheblich Potenziell starkPotenziell entscheidend

 

*Typische Werte in der Batterie- und Halbleiterherstellung

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WARUM VAISALA

Für die Halbleiterfertigung konzipiert

Das umfassende Vaisala Angebot mit den geeigneten Parametern sorgt für stabile Messungen in der Halbleiterherstellung.  
 

Messgenauigkeit konzipiert im Produkt

Wählen Sie Produkte aus einem Supportökosystem, die optimierte Betriebskosten und minimale Lebenszykluskosten bieten. 

Risiken vermeiden – von nass bis trocken zuverlässige Produkte wählen

Vaisala Produkte decken den gesamten Messbereich ab und bieten alles, was Sie  von nass bis trocken benötigen, einschließlich Produkte für spezifische Anwendungen. 

Angepasste Produkte – Auftragsfertigung

Wussten Sie, dass unsere Produkte individuell für eine bestimmte Anwendung oder Montagestelle angepasst werden können? 

Nichts macht uns mehr Freude, als gemeinsam mit Ihnen schwierige Messprobleme zu lösen. Kontaktieren Sie uns! Wir sind hier, um Ihnen zu helfen. 

Wir gehen den Weg

Vaisala fertigt Sensorchips für Vaisala Produkte und für den Einsatz in Forschung und Entwicklung im eigenen Reinraum. Wir wissen, was nötig ist, um erstklassige Qualität herzustellen. 

Darüber hinaus engagiert sich Vaisala für die Unterstützung unserer Produkte während ihres gesamten Lebenszyklus. Unsere kompetenten Service- und Supportleistungen sind in Ihrer Nähe, wo auch immer Sie sind. 

Anwendungen in der Halbleiterfertigung

Indigo300

Umgebungsmessungen im Reinraum, HLK

Feuchtesteuerung durch Klimaanlage, HLK 

Auch der Feuchtegrad kann sich auf den Herstellungsprozess von Halbleitern auswirken. Übermäßige Feuchte kann zur Kondensation auf empfindlichen Geräten führen und möglicherweise Defekte in den Halbleiterbauelementen verursachen. Präzisionsklimaanlagen helfen bei der Feuchtesteuerung und dienen als vorbeugendes Mittel. 

Indigo300 and DMP1 products

Effiziente raumweite Überwachung für maximale Prozesseffizienz

Durch die strategische Platzierung der Sonden in angemessenen Abständen kann der Trockenraum oder Reinraum effizient überwacht werden. Dadurch wird eine umfassende Steuerung Ihres gesamten Raums, unabhängig von der Größe, gewährleistet. 

Die DMP1 ist optimal für die Aufrechterhaltung der Prozesszuverlässigkeit und des richtigen Trockenheitsgrades in der Batterie- und Halbleiterherstellung mithilfe des Indigo300 geeignet.

Semiconductor wafer

Waferreinigung mithilfe von langlebigen Produkten

Die Waferreinigung ist ein kritischer Prozess bei der Halbleiterherstellung, um Verunreinigungen, Partikel und Rückstände von der Oberfläche von Siliziumwafern zu entfernen. Dieses Verfahren gewährleistet die Zuverlässigkeit und Funktionalität von integrierten Schaltkreisen und anderen Halbleiterbauelementen.

Besonders lange Haltbarkeit 

Reinigungsmittel können Säuren, verschiedene Lösemittel und Wasser enthalten. Diese Rückstände können wiederum vorhanden sein, weshalb von den Messsonden eine besonders lange Haltbarkeit verlangt wird.

Vaisala bietet korrosionsbeständige Sonden, auch ohne benetzte Metallteile, die speziell an die Waferreinigung angepasst und beständig gegenüber hoher Feuchte sowie aggressiven Chemikalien sind.

Es ist wichtig, nach der Reinigung für trockene Chips zu sorgen, um Verunreinigungen und Partikelanhaftungen zu vermeiden. 
 

Waferstepper in der Fotolithografie 

Waferstepper in der Fotolithografie ist ein weiterer kritischer Verarbeitungsschritt bei der Herstellung von integrierten Schaltkreisen und anderen Halbleiterbauelementen. Bei diesem Schritt wird ein Lichtmuster auf einen mit lichtempfindlichem Material (Fotolack) beschichteten Siliziumwafer projiziert und so das gewünschte Muster in den Wafer geätzt. Daher darf die Feuchte in manchen Fotolithografiebereichen unter Umständen nur um ±1 % schwanken.

  Temperatursteuerung für null Abweichungen in den Wafermustern

Hochwertige Messsonden in Steppern ermöglichen stabile Temperaturmessungen. Sie schützen die Wafer vor durch Temperaturschwankungen bedingten Abweichungen in den Musterabmessungen. Falsche Abmessungen der Wafermuster wirken sich negativ auf die Qualität und Leistung insgesamt der Halbleiterbauelemente aus. 
 

  Feuchtesteuerung für optische Stabilität

Der Waferstepper benötigt präzise Optik, um Muster auf den Wafer zu projizieren und zu übertragen. Jegliche Schwankungen der Temperatur oder anderer Umgebungsbedingungen können die Stabilität und Genauigkeit dieser Optik beeinträchtigen.
 

  Luftdrucksteuerung für präzise Lithografie und Prozessstabilität

Die Messung des Luftdrucks ist für die optische Präzision und Genauigkeit des Lithografieprozesses unerlässlich, da der Luftdruck direkten Einfluss auf den Brechungsindex der Luft hat. Dieser beeinflusst wiederum die Optik des Wafersteppers und die Wellenlänge des Lithografielichts. 
 

  Fokus- und Tiefensteuerung 

Verhindern Sie defokussierte Bilder, indem Sie den Luftdruck mithilfe von schnellen und genauen Instrumenten messen und steuern.

 

 

Semiconductor prober machine

Chip-Prober-Maschine eisfrei durch Feuchtesteuerung

Wafer-Prober-Maschinen erkennen defekte Wafer durch Testen der Chips. Die Tests werden bei kalten Temperaturen bis zu −40 °C durchgeführt. So wird sichergestellt, dass der Chip auch bei extremen Temperaturen funktioniert, beispielsweise wenn er später in einem Fahrzeug eingesetzt werden soll.

Die Testumgebung muss trocken gehalten werden, und die Taupunkttemperatur muss unter −40 °C liegen. So kann sich auf dem Chip kein Eis ablagern, das sich später bei Raumtemperatur in Wasser umwandeln und Verunreinigungen auf dem Chip ansammeln würde. 

Vaisala bietet genaue Taupunktsonden für Chip-Prober-Maschinen. 

 

Chemical - gas bottles

Hochreine Gase hochrein halten

Schützen Sie kostspielige Prozessgase vor Verunreinigung durch Feuchte. Die Gasqualität beeinträchtigt die Chipqualität erheblich, da selbst kleinste Verunreinigungen zu Defekten oder Ausfällen führen können. Feuchte kann mit bestimmten Materialien reagieren oder bei Prozessen wie Oxidation Defekte verursachen. 

Eine Sonde mit schneller Ansprechzeit erkennt jegliche Feuchte umgehend und gibt Alarm, wenn der eingestellte Grenzwert erreicht wird. 

Scientist at the cleanroom

Sicherer Differenzdruck im Reinraum

Mit unseren empfindlichen Sonden können Sie den Differenzdruck im Reinraum problemlos gemäß ISO 14644-Standard halten. Das modulare Vaisala Indigo System ermöglicht es, Differenzdruck- und Feuchtemesssonden an denselben Indigo Messwertgeber anzuschließen.

Erfahren Sie mehr über unsere Differenzdrucksonden PDT101 und PDT102.  

Vaisala PDT101

Vaisala PDT102

Semiconductor wafer

Konzentration der Nasschemikalien in Echtzeit messen und optimieren

In den Halbleiterwaferanlagen werden während des gesamten Herstellungsprozesses Tonnen von Chemikalien verbraucht. Stellen Sie die Zuverlässigkeit jeder Chemikalie sicher, und vermeiden Sie Abweichungen von der Spezifikation, die zu einer kostspieligen Verunreinigung der Geräte und zu Waferausschuss führen können.

Woman working on laptop

Kontaktieren Sie uns

Möchten Sie weitere Informationen zu einer bestimmten Anwendung oder einem bestimmten Produkt erhalten? Schreiben Sie uns, und wir melden uns bei Ihnen.

Fachinhalte und Anwendungsberichte

Halbleiterfertigung
Kundenberichte

Übertreffen der hochpräzisen Anforderungen der Herstellung integrierter Schaltkreise: die Rolle der Vaisala Instrumente in Reinräumen

Kunde: China Electronics System Engineering CEFOF und Halbleiterhersteller Beijing Memory Technologies, Inc. (BJMT) 
Herausforderung: Einrichtung einer Reinraumumgebung mit einem Überwachungssystem, das in der Lage ist, strenge Temperatur- und relative Feuchtetoleranzen zu überwachen
Lösung: Vaisala HMT370EX, Vaisala HMT120 und Vaisala HMT330. Alle perfekt für anspruchsvolle Prozessbedingungen, um hervorragende Messungen bereitzustellen

Zoomed in semiconductor wafer
Leitfaden

Verstehen und Nutzen von Echtzeitdaten im CMP-Prozess

Genaue und schnelle Messungen von Brechungsindex und relativer Feuchte für optimierte CMP-Werkzeugleistung  

Wussten Sie, dass die Messung des Brechungsindex mit einem Inline-Refraktometer eine sichere und kostengünstige
Echtzeit-Methode mit geringem Wartungsaufwand zur Prozessüberwachung ist, um die  Konzentration von Nasschemikalien exakt zu bestimmen? 

Zugehörige Produkte

DMP1 product image

Taupunktsonde DMP1

Die einzige Lösung, die speziell dafür entwickelt wurde, optimale Taupunktbedingungen in jedem m 3 Ihres Trockenraums oder Reinraums zu gewährleisten.
Indigo520 mit Sonde

Messwertgeber der Serie Indigo500

Die Vaisala Messwertgeber der Serie Indigo500 sind Host-Geräte für Vaisala Indigo-kompatible, eigenständige intelligente Sonden. Die Indigo500 Serie umfasst multifunktionale Indigo520 Messwertgeber und Indigo510 Messwertgeber mit Basisfunktionen.
Humidity and Temperature Probe HMP110 with cable

HMP110 Feuchte- und Temperatursonde

Die HMP110 in Miniaturbauweise hat einen Messbereich von 0 ... 100 % rF; -40 ... +80 °C; die Sonde arbeitet mit dem HUMICAP® 180R Sensor der neuesten Generation, der für maximale Stabilität und hohe chemische Beständigkeit sorgt.
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