KOH-Ätzen von Silizium

Da Temperatur und Konzentration der Ätzlösung einen großen Einfluss auf die Nassätzraten haben, können bei bekannter Ätzmittelkonzentration verschiedene Ätzprozesse optimiert und Ätzendpunkte bestimmt werden. Der Kaliumhydroxid (KOH)-Ätzprozess kann z. B. verbessert werden, wenn die Zusammensetzung der erhitzten KOH/H2O-Lösung kontinuierlich mit dem Vaisala K-PATENTS® Halbleiterrefraktometer überwacht wird. Mit fortschreitender Ätzung wird etwas KOH (und zwar OH-Ionen) im Prozess verbraucht, und frisches Ätzmittel muss ersetzt werden.

KOH-Ätzen von Silizium

Vaisala K-PATENTS Halbleiterrefraktometer ermöglichen Fabriken Folgendes:

• Überwachung der Konzentration des KOH-Ätzbades in Echtzeit und Bestimmung des korrekten Ätzendpunkts
• Deutliche Verlängerung der KOH-Ätzbadlebensdauer, in einigen Fällen sogar eine Verdoppelung der Badlebensdauer
• Verlängerung der Nutzung von Ätzmitteln, Minimierung des Chemikalienabfalls

Im Anwendungshinweis von Vaisala wird erklärt, wie mit einem Halbleiterrefraktometer der Prozess dank empfohlener Montagestellen für optimale Leistung verbessert werden kann.

Gelöstes Silikat erhöht den Konzentrationsmesswert. Im Anwendungshinweis wird auch erläutert, wie Sie diesen Offset mit einfacher Bilanzberechnung und ohne zusätzliche Messungen kompensieren können.

Laden Sie den Anwendungshinweis (PDF) herunter, indem Sie das Formular ausfüllen.

Alle Anwendungen in der Überwachung von und Fehlererkennung in Fabrikchemikalienprozessen

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