新闻和事件 Subscribe to news and webinars 最新动态 最新动态市场活动博客客户案例新闻 Apply 维萨拉通过无线二氧化碳测量解决方案简化培养箱监测 维萨拉 新闻稿 2021 年 5 月 31 日 维萨拉通过无线二氧化碳测量解决方案简化培养箱监测 作为全球天气、环境和工业测量领域的领导者，维萨拉推出测量二氧化碳的无线解决方案，简化了培养箱监测，让客户能够轻松完成安装并实现成本节约。 全新的生命科学环境测量解决方案... 了解更多 为什么维萨拉是许多半导体制造厂测定钨的 CMP 研磨液中 H2O2 浓度的首选供应商 PDF 版本 化学机械研磨/抛光 (CMP) 将化学反应和机械研磨结合在一起，是一项成本高昂且具有挑战性的重要纳米抛光工艺。这一工艺是集成电路制造中关键的使能步骤，对产量和工作效率都会产生影响。 CMP 简介 抛光工艺使用含氧化剂的浆料完成，氧化剂通常为过氧化氢 (H... 了解更多 借助维萨拉传感器实现数据中心连续运转 当要以最高效率运行数据中心时，使用可靠、准确的传感器来维护受控环境至关重要。 了解更多 使用维萨拉 HMT370EX 安全监测危险和易爆环境 在危险环境中使用“本安型”设备至关重要，这可以防止设备和线路释放出足以导致起火的电能或热能。几十年来，危险环境中的工作人员一直信任维萨拉 HMT360 能够安全可靠地测量湿度和温度，即使在 0 区也是如此。现在，本安型设备维萨拉 HMT370EX 同样可以提供安全可靠的测量数据... 了解更多 下载更多 更多新闻稿、博客和活动 新闻和证券交易所发布 Read More 博客与成功案例 Read More 活动和在线研讨会 Read More 维萨拉社交媒体 /zh/node/1386/vaisala-social-media Read More 新闻和证券交易所发布 Read More 博客与成功案例 Read More 活动和在线研讨会 Read More 维萨拉社交媒体 /zh/node/1386/vaisala-social-media Read More
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维萨拉通过无线二氧化碳测量解决方案简化培养箱监测 维萨拉 新闻稿 2021 年 5 月 31 日 维萨拉通过无线二氧化碳测量解决方案简化培养箱监测 作为全球天气、环境和工业测量领域的领导者，维萨拉推出测量二氧化碳的无线解决方案，简化了培养箱监测，让客户能够轻松完成安装并实现成本节约。 全新的生命科学环境测量解决方案... 了解更多
为什么维萨拉是许多半导体制造厂测定钨的 CMP 研磨液中 H2O2 浓度的首选供应商 PDF 版本 化学机械研磨/抛光 (CMP) 将化学反应和机械研磨结合在一起，是一项成本高昂且具有挑战性的重要纳米抛光工艺。这一工艺是集成电路制造中关键的使能步骤，对产量和工作效率都会产生影响。 CMP 简介 抛光工艺使用含氧化剂的浆料完成，氧化剂通常为过氧化氢 (H... 了解更多
使用维萨拉 HMT370EX 安全监测危险和易爆环境 在危险环境中使用“本安型”设备至关重要，这可以防止设备和线路释放出足以导致起火的电能或热能。几十年来，危险环境中的工作人员一直信任维萨拉 HMT360 能够安全可靠地测量湿度和温度，即使在 0 区也是如此。现在，本安型设备维萨拉 HMT370EX 同样可以提供安全可靠的测量数据... 了解更多
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