Huippuluokan puhdashuone Vaisalassa tutkimme, kehitämme ja valmistamme anturimme omassa puhdashuoneessamme. Oma puhdashuone ja anturitehdas ovat meille keskeinen vahvuus. Meillä on myös oma polymeerilaboratorio, jossa valmistamme polymeerejä antureita varten. Puhdashuone on alue, jossa ilman puhtautta, lämpötilaa ja kosteutta valvotaan ja kontrolloidaan erittäin tarkasti, jotta herkkien tuotteiden, laitteistojen ja työskentelyn puhtaus voidaan taata. Puhdashuoneen ilma suodatetaan jatkuvasti HEPA-suodattimien kautta, jotta pienimmätkään pölyhiukkaset ja epäpuhtaudet eivät pääse vahingoittamaan herkkiä materiaaleja. Puhdashuoneen ilma vaihtuu 100 kertaa tunnissa, ja optinen litografia -alueella jopa 400 kertaa tunnissa. Puhdashuone on lähestulkoon partikkeleista vapaa alue; siellä saa olla maksimissaan 1000 kappaletta yli 0,5 mikrometrin kokoisia partikkeleita yhtä kuutiojalkaa kohden. Optinen litografia -alueella saa olla maksimissaan 100 kappaletta yli 0,5 mikrometrin kokoisia partikkeleita yhtä kuutiojalkaa kohden. Kaikki puhdashuoneessa työskentelevät henkilöt käyttävät erityisiä suojavaatteita, joilla varmistetaan, ettei ylimääräisiä kuituja, karvoja tai ihohiukkasia pääse huoneilmaan. Anturikiekot ovat valmistuksen aikana jopa kolme kuukautta puhdashuoneessa, jossa ne läpikäyvät yli 100 tilastollista prosessinsäätömittausta. Jokaisen tuotantovaiheen jälkeen anturikiekot tarkistetaan huolellisesti esimerkiksi mikroskoopilla ennen seuraavaa tuotantovaihetta. Lopuksi kiekot viedään testausalueelle, jossa ne testataan samanlaisissa olosuhteissa kuin missä valmiita antureita tullaan lopulta käyttämään. Vaisalan ensimmäinen puhdashuone valmistui jo 1980. Nykyinen 500 m2 laajuinen puhdashuone on ollut käytössä vuodesta 2004 saakka. Vaisalan puhdashuoneen määrittelyt: Pinta-ala 500 m2 Kosteus 40 %RH Kosteus kuivahuoneessa 15 %RH Lämpötila 22 °C Ilman puhtaus (partikkelien määrä) noudattaa ISO 5 ja ISO 6 -standardien vaatimuksia: ISO 5 (Optinen litografia -alue) <100 yli 0,5µm partikkelia / ft3 ilmaa Ilma vaihtuu 400 krt/h ISO 6 (Muut prosessialueet) <1,000 yli 0,5µm partikkelia / ft3 ilmaa Ilma vaihtuu 100 krt/h
Huippuluokan puhdashuone Vaisalassa tutkimme, kehitämme ja valmistamme anturimme omassa puhdashuoneessamme. Oma puhdashuone ja anturitehdas ovat meille keskeinen vahvuus. Meillä on myös oma polymeerilaboratorio, jossa valmistamme polymeerejä antureita varten.
Puhdashuone on alue, jossa ilman puhtautta, lämpötilaa ja kosteutta valvotaan ja kontrolloidaan erittäin tarkasti, jotta herkkien tuotteiden, laitteistojen ja työskentelyn puhtaus voidaan taata. Puhdashuoneen ilma suodatetaan jatkuvasti HEPA-suodattimien kautta, jotta pienimmätkään pölyhiukkaset ja epäpuhtaudet eivät pääse vahingoittamaan herkkiä materiaaleja. Puhdashuoneen ilma vaihtuu 100 kertaa tunnissa, ja optinen litografia -alueella jopa 400 kertaa tunnissa. Puhdashuone on lähestulkoon partikkeleista vapaa alue; siellä saa olla maksimissaan 1000 kappaletta yli 0,5 mikrometrin kokoisia partikkeleita yhtä kuutiojalkaa kohden. Optinen litografia -alueella saa olla maksimissaan 100 kappaletta yli 0,5 mikrometrin kokoisia partikkeleita yhtä kuutiojalkaa kohden. Kaikki puhdashuoneessa työskentelevät henkilöt käyttävät erityisiä suojavaatteita, joilla varmistetaan, ettei ylimääräisiä kuituja, karvoja tai ihohiukkasia pääse huoneilmaan. Anturikiekot ovat valmistuksen aikana jopa kolme kuukautta puhdashuoneessa, jossa ne läpikäyvät yli 100 tilastollista prosessinsäätömittausta. Jokaisen tuotantovaiheen jälkeen anturikiekot tarkistetaan huolellisesti esimerkiksi mikroskoopilla ennen seuraavaa tuotantovaihetta. Lopuksi kiekot viedään testausalueelle, jossa ne testataan samanlaisissa olosuhteissa kuin missä valmiita antureita tullaan lopulta käyttämään. Vaisalan ensimmäinen puhdashuone valmistui jo 1980. Nykyinen 500 m2 laajuinen puhdashuone on ollut käytössä vuodesta 2004 saakka. Vaisalan puhdashuoneen määrittelyt: Pinta-ala 500 m2 Kosteus 40 %RH Kosteus kuivahuoneessa 15 %RH Lämpötila 22 °C Ilman puhtaus (partikkelien määrä) noudattaa ISO 5 ja ISO 6 -standardien vaatimuksia: ISO 5 (Optinen litografia -alue) <100 yli 0,5µm partikkelia / ft3 ilmaa Ilma vaihtuu 400 krt/h ISO 6 (Muut prosessialueet) <1,000 yli 0,5µm partikkelia / ft3 ilmaa Ilma vaihtuu 100 krt/h
