Liefersystem von Massenchemikalien

In der Halbleiterindustrie kommt ein breites Spektrum an Nassverarbeitungschemikalien, Ätzmitteln, Reinigungsmitteln und CMP-Schlämmen bei der Herstellung von integrierten Schaltkreisen oder Siliziumchips einschließlich Siliziumwafer zum Einsatz.

Lieferung von Massenchemikalien

Die Verwendung eines Vaisala K-PATENTS® Halbleiterrefraktometers zur Messung der Flüssigkeitskonzentration bringt große Vorteile und Einsparungen, da es folgendermaßen hilft:

• Optimierung des Ätzprozesses und Verlängerung der Badlebensdauer der Ätzlösung (z. B. erwärmtes KOH)
• Steigerung des Waferdurchsatzes und Reduzierung des Verbrauchs von Reinigungschemikalien (z. B. EKC)
• Genaue Steuerung der CMP-Schlämme und bessere Gleichmäßigkeit des Planarisierungsprozesses
• Wirksame Vermeidung, dass falsche Massenchemikalien und Chemikalienkonzentrationen in den Prozess gelangen und kostspielige Geräteschäden entstehen
• Messung der Konzentration von KOH (Kaliumhydroxid), H2SO4 (Schwefelsäure), HF (Flusssäure), NH4OH (Ammoniumhydroxid), HCl (Salzsäure), IPA (Isopropylalkohol), EKC, CMP-Schlämmen und anderen Stoffen

Im Anwendungshinweis von Vaisala wird erklärt, wie mit einem Halbleiterrefraktometer der Prozess dank empfohlener Montagestellen für optimale Leistung verbessert werden kann. Außerdem wird kurz die zuverlässige Technologie erläutert, auf die unser Halbleiterrefraktometer basiert.

Laden Sie den Anwendungshinweis herunter, um alle Details zu erfahren.

Alle Anwendungen in der Überwachung von und Fehlererkennung in Fabrikchemikalienprozessen

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