Vaisala K-PATENTS® 반도체 굴절계 PR-33-S

반도체 액체 화학 공정을 위한 초순수 수정된 PTFE 플로우 셀(Flow Cell) 본체를 갖춘 소형 굴절계. ¼ — 1인치 기둥 또는 플레어 피팅에 의해 공정에 연결됨.

Vaisala (바이살라) K-PATENTS® 반도체 굴절계 PR-33-S는 클린룸 환경과 통합 공정 도구(혼합, 세정, 에칭 및 CMP)에서 제조공장 화학물질의 농도를 모니터링합니다.

PR-33-S는 초순수 수정된 PTFE 플로우 셀(Flow Cell) 본체, 그리고 모든 표준 PoE(이더넷 전원 장치) 스위치가 센서에 전력을 공급하고 컴퓨터에 데이터를 전송하는 데 사용할 수 있는 이더넷 케이블로 구성되어 있습니다. PR-33-S는 화학물질의 농도를 실시간으로 모니터링하여 화학물질이 사양에서 벗어난 경우 이더넷 출력 신호와 즉각적인 피드백을 제공합니다. 예를 들어, 저농도 및 고농도 알람을 구성하여 세척조 수명을 제어하고 늘릴 수 있습니다. 농도는 용액의 굴절률 nD와 온도를 광학적으로 측정하여 확인됩니다.

PR-33-S는 플레어 또는 기둥 피팅과 직렬로 장착됩니다. PR-33-S는 크기가 작고 금속 성분이 없어서 차지하는 공간이 매우 작습니다.

주요 구성요소:

  • N.I.S.T. 교정 소급성, 표준 굴절 시약과 검증된 절차를 통해 검증.
  • 특허 받은 CORE-optics(미국 특허 번호 US6067151). 
  • 데이터 기록 및 원격 작동을 위한 이더넷 원격 패널.
  • 통신은 표준 UDP/IP 프로토콜을 통해 구축됩니다.
  • 공정 온도 범위: -20°C~85°C(-4°F~185°F).
  • 내장된 Pt1000 및 자동 디지털 온도 보상을 통한 빠른 공정 온도 측정.
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주요 이점

풀 디지털 장치
Vaisala K‑PATENTS® 반도체 굴절계 PR-33-S는 공정 제어 및 모니터링에 사용되며 이더넷 출력 신호를 연속으로 제공합니다. 크기가 작아서 장치를 직접 직렬로 장착할 수 있습니다.
전체 범위에 걸쳐 정확하고 안정된 측정 성능 제공
굴절률 nD 1.3200–1.5300(무게 기준 0-100%에 해당)의 폭넓은 측정 범위. 독성이 강한 불화수소를 위한 선택 범위 nD 1.2600–1.4700. 일반 정확도 R.I.+ 0.0002(일반적으로 무게 기준 0.1%에 해당)(예: 수분 내 HCl).

측정값은 PPM 범위의 입자, 거품, 난류 또는 불순물에 영향을 받지 않습니다.
간편한 정비
내부에 특허 받은 광학 소자 설계 적용.
드리프트 없음. 재보정 없음. 기계적 조정 없음.

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