Webセミナー「ウェーハ―の品質・歩留まりを最適化するCMPプロセスにおける連続濃度モニタリング」

このWebセミナーでは、屈折率計を使用した半導体製造工程におけるCMPプロセス最適化のアプリケーションを解説していきます。
半導体製造工程におけるCMPプロセスは、安定した製品品質を保つために、非常に高精度なCMPスラリーの濃度管理が必要になります。
気泡の影響を受けることなく、腐食性溶液の測定が可能な計器が欠かせません。屈折率計の原理とヴァイサラ屈折率計の特徴を踏まえ、このようなCMPプロセスにおける使用用途を紹介します。
 
主なトピック
・CMPプロセスとは
・ヴァイサラ屈折率計の特徴の紹介
1.    泡・微粒子の影響を受けない液体濃度計測
2.    定期的メンテナンスフリー
3.    耐腐食性材質のラインアップ
・CMPプロセスにおけるヴァイサラ屈折率計導入事例

開催概要        　  
演題：
「ウェーハ―の品質・歩留まりを最適化するCMPプロセスにおける連続濃度モニタリング」

講演者：
ヴァイサラ株式会社
インサイドセールスエンジニア
夏井　敬史

視聴費：無料
視聴方法：
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このような分野の方にお薦めです：
半導体製造装置メーカーの技術者、半導体メーカーの品質管理担当者
総合設備工事、産業空調、生産施設担当者

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