产品样本 联系我们 维萨拉 K-PATENTS® 半导体行业用折光仪 PR-33-S 适用于半导体行业液态化学品测量 该折光仪外形紧凑,流通池采用改良超纯 PTFE 制成,适用于半导体液态化学品测量。可通过 ¼ 至 1 英寸的皮拉 Pillar 或扩口 Flare 连接。 维萨拉 K-PATENTS® 半导体行业用折光仪 PR-33-S 用于晶圆洁净室里的化学品浓度监测,通常被安装在混合、清洗、蚀刻和 (CMP) 等机台上。 PR-33-S 包含改良超纯 PTFE 流通池和以太网线,任何标准的以太网供电 (PoE) 开关均可通过以太网线向传感器供电,并将数据传输给计算机。PR-33-S 实时监控化学品浓度,并立即通过以太网信号输出,当化学品浓度超出规定范围时,可通过配置过低浓度和过高浓度警报来控制和延长使用周期。该仪器通过光学原理测量溶液的折射率 nD 和温度,从而获得溶液浓度。 PR-33-S 直接通过柱形或喇叭形配件串接来进行安装,而且结构紧凑,不含金属,占地面积小。 关键要素: N.I.S.T. 标准下的可追溯校准及验证,采用标准折射率液体和验证程序进行验证。 独特光学核心设计。 通过以太网进行数据记录和远程界面操作。 标准 UDP/IP 通信。 过程温度范围:-20°C – 85°C (-4°F – 185°F)。 内置 Pt1000 快速温度测量及自动温度补偿 。 + 显示更多 主要优势 全数字化设备 维萨拉 K-PATENTS® 半导体行业用折光仪 PR-33-S 用于过程监控,可提供连续的以太网输出信号,设计紧凑,可直接串接在过程管路上。 满量程下保持精确稳定测量 折光率测量范围 nD 1.3200–1.5300,相当于 0-100%(重量百分比)。对于高浓度 HF,可选范围为 nD 1.2600–1.4700。标称准确度为 R.I.+ 0.0002,通常相当于 0.1%(按重量百分比计),例如,盐酸浓度。 测量不受颗粒、气泡、紊流及 PPM 浓度级别微量杂质影响。 易于维护 独特光学核心设计。 无漂移。无需重新校准。无需进行机械调节。 下载 Manual: PR-33-S instruction manual (3.17 MB) Manual: PR-33-S refractometer Modbus/TCP, Modbus RTU, Ethernet/IP converter user manual (809.73 KB) Manual: PR-33-S installation instructions and mounting recommendations (2.02 MB) Manual: PR-33-S recommended installation in CMP slurry delivery systems (1.71 MB) Order Form: HF specific return instructions for PR-33-S (176.27 KB) Brochure: Vaisala K-PATENTS® Semicon Refractometer PR-33-S (607.94 KB) Technical Note: PR-33-S ethernet protocol specification (809.73 KB) 全部下载 客户案例 Customer case Why Vaisala is a preferred vendor for many semiconductor fabrication plants for qualifying H2O2 concentration in CMP of tungsten PDF version Chemical mechanical planarization/polishing (CMP) is a critical, very costly, and challenging nano-polishing process that combines... 了解更多 需要支持? 注册新闻 联系我们
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