ヴァイサラ K-PATENTS®| 半導体製造プロセス向け屈折率計 PR-33-S

半導体製造プロセス中の薬液用の超高純度変性PTFEフローセル本体が付属した小型屈折率計です。1/4~1インチのピラーまたはフレア継手でプロセスに接続します。

ヴァイサラ K-PATENTS® 半導体製造プロセス向け屈折率計 PR-33-Sは、製造工場のクリーンルーム環境や統合プロセスツール(ブレンド、クリーニング、エッチング、CMP)で薬液濃度をモニタリングします。

PR-33-S は超高純度変性PTFEフローセル本体とイーサネットケーブルで構成されています。このイーサネットケーブルは、標準のPoE(パワーオーバーイーサネット)スイッチによるセンサへの電力供給とコンピュータへのデータ転送に使用されます。PR-33-S は化学物質の濃度をリアルタイムでモニタリングし、化学物質濃度が仕様範囲を逸脱した場合に、イーサネット出力信号と即時のフィードバックを提供します。たとえば、低濃度と高濃度アラームを構成することで、浴寿命を管理および延長することができます。濃度は、溶液の屈折率nDと温度を計測することで決定されます。

PR-33-Sは、フレアまたはピラー継手を使用してインラインに直接取り付けることができます。PR-33-Sはコンパクトなメタルフリー構造をしているため、設置面積が小さくて済みます。

主な特徴

  • 標準R.I.液によるN.I.S.T.にトレーサブルな校正、バリデーション、およびバリデーション済みの手順を提供
  • 特許取得済みのCORE光学モジュール(米国特許番号 US6067151)
  • イーサネット経由のリモートパネルでデータロギングとリモート操作が可能
  • 通信は標準プロトコルUDP/IPにより構築
  • プロセス温度範囲:-20~+85°C
  • 組み込みのPt1000および自動デジタル温度補正により、プロセス温度の高速計測を実現
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特長

完全デジタルなデバイス
ヴァイサラ K-PATENTS® 半導体製造プロセス向け屈折率計 PR-33-Sは、プロセス管理およびプロセスモニタリングの用途に最適であり、イーサネット出力信号を常時提供します。コンパクトなデザインのため、インラインに直接取り付けることができます。
高精度で安定した計測を計測範囲全域で実現
全計測範囲で屈折率nD1.3200~1.5300(重量比0~100%に相当)。高フッ化水素の場合、nD1.2600~1.4700(オプション範囲)。標準精度はR.I.+0.0002 で、通常は重量比0.1%(水分中の塩化水素など)に相当します。

計測は、ppm範囲で粒子、気泡、乱流、または不純物などの影響を受けません。
容易なメンテナンス
特許取得済みの光学系センサを内臓。
ドリフトなし。再校正なし。機械的調整なし。