Valmistuskemikaalien märkäprosessin monitorointi ja häiriöiden tunnistus

Prosessimonitorointiovelluksissa kemiallisen tasapainon on pysyttävä haluttuna pitkällä aikavälillä. Häiriönetsintäsovelluksissa järjestelmän on varmennettava, että prosessiin annostellaan oikeaa kemikaalia. Tarkan monitoroinnin ansiosta valmistajat tietävät kunkin kemikaalivirran koostumuksen. Ilman monitorointia tapahtuva valmistus tekee käytännössä kiekoista kemikaalien valvontalaitteita. Siinä vaiheessa kyseiset kiekot on jo menetetty ja laitteet ovat voineet kontaminoitua.

Vaisala K‑PATENTS®puolijohderefraktometri tarjoaa reaaliaikaista nesteiden mittausta ja monitorointia, ja se estää väärien kemikaalipitoisuuksien annostelun kiekoille. Laite ilmaisee milloin kemikaalia olisi täydennettävä, esimerkiksi vesipitoisuus EKC:ssa etsauksen jälkeisessä jäänteiden poistossa, ja se myös indikoi kylvyn elinkaaren ja KOH-pitoisuuden piin etsauksessa.

 

Valmistuskemikaalien märkäprosessin monitorointi ja häiriönetsintäsovellukset

Vaisala tarjoaa prosessilinjalla käytettäviä reaaliaikaisia, luotettavia, tarkkoja ja edullisia mittalaitteita märkäprosessin pitoisuusmittauksiin. Näillä mittalaitteilla voidaan korvata kalliit ja monimutkaiset analysaattorit, joita käytetään valmistuskemikaalien prosessinvalvonnassa ja häiriöntunnistuksessa sekä CMP:n slurryn koostumuksen ja pitoisuuksien valvonnassa.

Kemikaalien bulkkitoimitus

Saapuvien kemikaalien laaduntarkistus esimerkiksi kemikaaleille HF, IPA, DHF, H2O2, HNO3, HCI, KOH, NaOH ja NH4OH. 

Peroksidin sekoitus ja annostelu CMP:ssä

Kriittiset prosessijärjestelmät: vetyperoksidin H2O2 tai muun hapettimen pitoisuuden valvonta kemiallismekaanisessa tasoitusprosessissa (CMP, Chemical Mechanical Planarization). 

Piin KOH-etsaus

Etsauksen optimaalisen lopetuskohdan selvittäminen KOH-kylvyn pitoisuuden monitoroinnilla. 

Asiantuntijaraportit

Taitekerroinmittaus CMP-slurryn häiriöntunnistajana

Johtavat valmistajat suosivat nykyään taitekerroinmittausta CMP-slurryn sekoitus- ja annostelujärjestelmien häiriöntunnistuksessa. Taitekerroinmittaus on jatkuvatoiminen mittaustekniikka, joka ei edellytä näytteenottoa, joten valmistajat voivat sen...

Tuotteet

Vaisala K-PATENTS® PR-23-MS puolijohderefraktometri

Vaisala K-PATENTS® PR-23-MS puolijohderefraktometri

Kompakti refraktometri, jossa on ultrapuhtaasta muunnellusta PTFE-muovista valmistettu virtauskenno puolijohteiden nestemäisten kemikaalien prosesseja varten. Laite kytketään prosessiin ¼–1 tuuman muhvi- tai kierreliitoksella. Vaisala K-PATENTS® PR-23-MS...