Monitoreo de los procesos químicos de fabricación y detección de fallas En las aplicaciones de monitoreo de procesos, se debe mantener la química deseada a lo largo del tiempo. En aplicaciones de detección de fallas, el sistema debe verificar que se esté distribuyendo el producto químico correcto al proceso. Con un monitoreo preciso, los fabricantes conocen la composición de cada flujo químico dado. Sin monitoreo, las obleas se convierten en los monitores químicos de facto. Para ese momento, las obleas ya se habían perdido y la contaminación del equipo a gran escala podría haber ocurrido. El refractómetro de semiconductores K-PATENTS® de Vaisala ofrece monitoreo de líquidos en tiempo real y evita que se distribuyan concentraciones químicas incorrectas en las obleas, indica el momento de la inyección, p. ej. para agua en EKC en la eliminación residual posterior al grabado e indica la vida del baño y la concentración de KOH en el grabado de silicio. Aplicaciones en el monitoreo de los procesos químicos de la fabricación y detección de fallas Vaisala ofrece metrología en línea, en tiempo real, confiable, precisa y rentable para mediciones de concentración de química húmeda que puede reemplazar a los costosos y complejos analizadores que se utilizan en el monitoreo de los procesos químicos de la fabricación y la detección de fallas, así como el control de la concentración y de la composición de la suspensión CMP. Entrega de productos químicos a granel Detección de calidad de productos químicos entrantes, como: HF, IPA, DHF, H2O2, HNO3, HCI, KOH, NaOH, NH4OH. Productos químicos húmedos semiconductores Monitoreo de concentración en tiempo real de productos químicos húmedos durante la fabricación de obleas de silicio. Mezcla de peróxido y dispensación en CMP Sistemas de proceso críticos: monitoreo de la concentración de peróxido de hidrógeno H2O2 u otro agente oxidante durante el proceso de Planarización Mecánica Química (CMP, Chemical Mechanical Planarization). KOH en grabado de silicio Monitoreo de la concentración del baño de KOH para determinar el extremo del grabado. Tratamientos postlimpieza en EKC Monitoreo del contenido de agua en EKC para herramientas de solvente en aerosol. Detección de interfaz química en limpieza de obleas Cambio instantáneo de productos químicos de limpieza de obleas ácido fluorhídrico (HF, hydrofluoric acid ), agua desionizada (DIW, deionized water), SC-1 (H2O2, NH3). Industria solar (fotovoltaica): eliminación de material residual de aserrado de obleas solares Monitoreo de la concentración del baño de ácido láctico CH3CHOHCOOH o ácido acético CH3COOH. Informes técnicos Índice de refracción en línea en la caracterización del ensayo de la lechada CMP fresca y efluente entrante utilizada Las mediciones del índice de refracción en línea (RI) son la técnica de elección para calificar el contenido de peróxido de hidrógeno en suspensiones CMP. Sin embargo, el contenido de peróxido no es la única medida de interés de la suspensión. Por lo... El índice de refracción en línea reemplaza la titulación automática al calificar la concentración de H₂O₂ en CMP de tungsteno Las mediciones del índice de refracción se han establecido como la técnica de elección para calificar el contenido de peróxido en lechadas para CMP de tungsteno. Muchos flujos de procesos emergentes utilizan CMP como una herramienta crítica para construir... Monitoreo del índice de refracción en línea para detección de fallas de lechada CMP Las mediciones del índice de refracción en línea se han establecido como la técnica de elección para detectar fallas en la mezcla de la suspensión CMP y los sistemas de dispensación de fabricantes líderes. El índice de refracción, una medición continua sin... Monitoreo químico en sition en suministros químicos de fabricación de semiconductores La calidad química entrante se ha dejado a los proveedores de productos químicos. Los fabricantes de semiconductores tienen una capacidad muy limitada o nula para detectar problemas con los procesos químicos de sus proveedores. Se constató que el producto... Productos relacionados Refractómetro Semicon K−PATENTS® PR-33-S de Vaisala para procesos químicos líquidos semiconductores Un refractómetro compacto con un cuerpo de celda de flujo de PTFE modificado ultrapuro para... Read more Refractómetro Semicon K−PATENTS® PR-23-MS de Vaisala para procesos químicos líquidos semiconductores Un refractómetro compacto con un cuerpo de celda de flujo de PTFE modificado ultrapuro para... Read more
En las aplicaciones de monitoreo de procesos, se debe mantener la química deseada a lo largo del tiempo. En aplicaciones de detección de fallas, el sistema debe verificar que se esté distribuyendo el producto químico correcto al proceso. Con un monitoreo preciso, los fabricantes conocen la composición de cada flujo químico dado. Sin monitoreo, las obleas se convierten en los monitores químicos de facto. Para ese momento, las obleas ya se habían perdido y la contaminación del equipo a gran escala podría haber ocurrido. El refractómetro de semiconductores K-PATENTS® de Vaisala ofrece monitoreo de líquidos en tiempo real y evita que se distribuyan concentraciones químicas incorrectas en las obleas, indica el momento de la inyección, p. ej. para agua en EKC en la eliminación residual posterior al grabado e indica la vida del baño y la concentración de KOH en el grabado de silicio.
En las aplicaciones de monitoreo de procesos, se debe mantener la química deseada a lo largo del tiempo. En aplicaciones de detección de fallas, el sistema debe verificar que se esté distribuyendo el producto químico correcto al proceso. Con un monitoreo preciso, los fabricantes conocen la composición de cada flujo químico dado. Sin monitoreo, las obleas se convierten en los monitores químicos de facto. Para ese momento, las obleas ya se habían perdido y la contaminación del equipo a gran escala podría haber ocurrido. El refractómetro de semiconductores K-PATENTS® de Vaisala ofrece monitoreo de líquidos en tiempo real y evita que se distribuyan concentraciones químicas incorrectas en las obleas, indica el momento de la inyección, p. ej. para agua en EKC en la eliminación residual posterior al grabado e indica la vida del baño y la concentración de KOH en el grabado de silicio.
Aplicaciones en el monitoreo de los procesos químicos de la fabricación y detección de fallas Vaisala ofrece metrología en línea, en tiempo real, confiable, precisa y rentable para mediciones de concentración de química húmeda que puede reemplazar a los costosos y complejos analizadores que se utilizan en el monitoreo de los procesos químicos de la fabricación y la detección de fallas, así como el control de la concentración y de la composición de la suspensión CMP. Entrega de productos químicos a granel Detección de calidad de productos químicos entrantes, como: HF, IPA, DHF, H2O2, HNO3, HCI, KOH, NaOH, NH4OH. Productos químicos húmedos semiconductores Monitoreo de concentración en tiempo real de productos químicos húmedos durante la fabricación de obleas de silicio. Mezcla de peróxido y dispensación en CMP Sistemas de proceso críticos: monitoreo de la concentración de peróxido de hidrógeno H2O2 u otro agente oxidante durante el proceso de Planarización Mecánica Química (CMP, Chemical Mechanical Planarization). KOH en grabado de silicio Monitoreo de la concentración del baño de KOH para determinar el extremo del grabado. Tratamientos postlimpieza en EKC Monitoreo del contenido de agua en EKC para herramientas de solvente en aerosol. Detección de interfaz química en limpieza de obleas Cambio instantáneo de productos químicos de limpieza de obleas ácido fluorhídrico (HF, hydrofluoric acid ), agua desionizada (DIW, deionized water), SC-1 (H2O2, NH3). Industria solar (fotovoltaica): eliminación de material residual de aserrado de obleas solares Monitoreo de la concentración del baño de ácido láctico CH3CHOHCOOH o ácido acético CH3COOH.
Entrega de productos químicos a granel Detección de calidad de productos químicos entrantes, como: HF, IPA, DHF, H2O2, HNO3, HCI, KOH, NaOH, NH4OH.
Productos químicos húmedos semiconductores Monitoreo de concentración en tiempo real de productos químicos húmedos durante la fabricación de obleas de silicio.
Mezcla de peróxido y dispensación en CMP Sistemas de proceso críticos: monitoreo de la concentración de peróxido de hidrógeno H2O2 u otro agente oxidante durante el proceso de Planarización Mecánica Química (CMP, Chemical Mechanical Planarization).
KOH en grabado de silicio Monitoreo de la concentración del baño de KOH para determinar el extremo del grabado.
Tratamientos postlimpieza en EKC Monitoreo del contenido de agua en EKC para herramientas de solvente en aerosol.
Detección de interfaz química en limpieza de obleas Cambio instantáneo de productos químicos de limpieza de obleas ácido fluorhídrico (HF, hydrofluoric acid ), agua desionizada (DIW, deionized water), SC-1 (H2O2, NH3).
Industria solar (fotovoltaica): eliminación de material residual de aserrado de obleas solares Monitoreo de la concentración del baño de ácido láctico CH3CHOHCOOH o ácido acético CH3COOH.
Informes técnicos Índice de refracción en línea en la caracterización del ensayo de la lechada CMP fresca y efluente entrante utilizada Las mediciones del índice de refracción en línea (RI) son la técnica de elección para calificar el contenido de peróxido de hidrógeno en suspensiones CMP. Sin embargo, el contenido de peróxido no es la única medida de interés de la suspensión. Por lo... El índice de refracción en línea reemplaza la titulación automática al calificar la concentración de H₂O₂ en CMP de tungsteno Las mediciones del índice de refracción se han establecido como la técnica de elección para calificar el contenido de peróxido en lechadas para CMP de tungsteno. Muchos flujos de procesos emergentes utilizan CMP como una herramienta crítica para construir... Monitoreo del índice de refracción en línea para detección de fallas de lechada CMP Las mediciones del índice de refracción en línea se han establecido como la técnica de elección para detectar fallas en la mezcla de la suspensión CMP y los sistemas de dispensación de fabricantes líderes. El índice de refracción, una medición continua sin... Monitoreo químico en sition en suministros químicos de fabricación de semiconductores La calidad química entrante se ha dejado a los proveedores de productos químicos. Los fabricantes de semiconductores tienen una capacidad muy limitada o nula para detectar problemas con los procesos químicos de sus proveedores. Se constató que el producto...
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