Monitoreo de los procesos químicos de fabricación y detección de fallas

En las aplicaciones de monitoreo de procesos, se debe mantener la química deseada a lo largo del tiempo. En aplicaciones de detección de fallas, el sistema debe verificar que se esté distribuyendo el producto químico correcto al proceso. Con un monitoreo preciso, los fabricantes conocen la composición de cada flujo químico dado. Sin monitoreo, las obleas se convierten en los monitores químicos de facto. Para ese momento, las obleas ya se habían perdido y la contaminación del equipo a gran escala podría haber ocurrido.

El refractómetro de semiconductores K-PATENTS® de Vaisala ofrece monitoreo de líquidos en tiempo real y evita que se distribuyan concentraciones químicas incorrectas en las obleas, indica el momento de la inyección, p. ej. para agua en EKC en la eliminación residual posterior al grabado e indica la vida del baño y la concentración de KOH en el grabado de silicio.

 

Aplicaciones en el monitoreo de los procesos químicos de la fabricación y detección de fallas

Vaisala ofrece metrología en línea, en tiempo real, confiable, precisa y rentable para mediciones de concentración de química húmeda que puede reemplazar a los costosos y complejos analizadores que se utilizan en el monitoreo de los procesos químicos de la fabricación y la detección de fallas, así como el control de la concentración y de la composición de la suspensión CMP.

Mezcla de peróxido y dispensación en CMP

Sistemas de proceso críticos: monitoreo de la concentración de peróxido de hidrógeno H2O2 u otro agente oxidante durante el proceso de Planarización Mecánica Química (CMP, Chemical Mechanical Planarization). 

Informes técnicos

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