Überwachung chemischer Herstellungsprozesse und Fehlererkennung

Bei Prozessüberwachungsanwendungen muss die gewünschte Chemikalie im Laufe der Zeit gewartet werden. Bei Fehlererkennungsanwendungen muss das System sicherstellen, dass die richtige Chemikalie in den Prozess abgegeben wird. Dank genauer Überwachung kennen die Hersteller die Zusammensetzung jedes einzelnen Chemikalienstroms. Ohne Überwachung werden Wafer faktisch zu chemischen Monitoren. Zu diesem Zeitpunkt sind Wafer aber bereits unbrauchbar geworden und eine großflächige Kontamination der Geräte kann eingetreten sein.

Das Vaisala K‑PATENTS® Halbleiterrefraktometer bietet Flüssigkeitsüberwachung in Echtzeit und verhindert, dass falsche Chemikalienkonzentrationen auf Wafer abgegeben werden. Das Refraktometer weist auf das Timing für Spitzenprozesse, z. B. für Wasser in EKC bei der Nachätz-Restentfernung, hin und zeigt die Badlebensdauer und die KOH-Konzentration beim Ätzen von Silizium an.  

 

Anwendungen in der Überwachung chemischer Herstellungsprozesse und Fehlererkennung

Vaisala bietet eine zuverlässige, präzise und kosteneffizient In-Line-Messtechnik in Echtzeit für Konzentrationsmessungen in der Wet Chemistry. Diese kann teure und komplexe Analysegeräte ersetzen, die für die Überwachung chemischer Herstellungsprozesse und Fehlererkennung sowie für die Kontrolle der CMP-Schlammzusammensetzung und -konzentration eingesetzt werden.

Peroxidmischung und -dosierung bei CMP

Kritische Prozesssysteme: Überwachung der Konzentration von Wasserstoffperoxid H2O2 oder eines anderen Oxidationsmittels während des CMP-Prozesses (chemisch-mechanisches Planarisieren). 

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